Les cibles de pulvérisation cathodique en titane sont fabriquées en métal titane et sont utilisées dans les processus de revêtement par pulvérisation cathodique.
Les matériaux cibles en titane sont couramment utilisés dans les revêtements d'outils matériels, les revêtements décoratifs, les revêtements de composants semi-conducteurs et les revêtements d'écrans plats. Il existe deux méthodes principales pour fabriquer des cibles de pulvérisation en titane : la méthode de fusion et la méthode de coulée.
Fusion:Chauffer le métal à haute température jusqu’à ce qu’il devienne liquide. Versez-le ensuite dans le moule et refroidissez-le pour former un matériau cible solidifié.
Fonderie:Placez le métal dans une chambre à vide et bombardez-le de particules à haute énergie. Cela entraînera l’évaporation du métal et, lorsqu’il refroidira, il se condensera sur la surface cible.
C'est l'un des matériaux de base pour la préparation des circuits intégrés, et sa pureté doit généralement être supérieure à 99,99 %. AEM fournit des cibles en alliage de titane, telles que des cibles de pulvérisation en tungstène-titane (W/Ti 90/10 % en poids), qui sont des matériaux importants dans les industries des semi-conducteurs et de l'énergie solaire. La densité des cibles de pulvérisation W/Ti peut atteindre plus de 14,24 g/cm3 et la pureté peut atteindre 99,995 %.
Caractéristiques
1. Haute pression :Les matériaux cibles de pulvérisation de titane ont une densité élevée, une résistance élevée à la chaleur et une pression élevée, ce qui peut maintenir leurs performances dans des environnements complexes.
2. Stabilité chimique :Les matériaux cibles en titane ont une bonne stabilité chimique et une longue durée de vie.
3. Coût élevé :Les matériaux cibles en titane ont des coûts élevés, mais en raison de leurs excellentes performances, ils sont largement utilisés dans les domaines de haute technologie.
Champs d'application
1. Domaine des semi-conducteurs :Le matériau cible de pulvérisation cathodique en titane est l'une des matières premières importantes dans le processus de fabrication des puces semi-conductrices et constitue un matériau clé pour la fabrication de composants tels que des transistors et des circuits.
2. Domaine industriel :Les matériaux cibles en titane peuvent être utilisés pour produire des revêtements haut de gamme, des matériaux anticorrosion, etc., et sont largement utilisés dans des domaines tels que l'automobile et la fabrication.
3. Domaine médical :Les matériaux cibles en titane présentent des caractéristiques telles que la biocompatibilité et la biodégradabilité, et peuvent être utilisés pour fabriquer des dispositifs médicaux tels que des articulations artificielles et des implants dentaires.
En résumé, la cible de pulvérisation en titane est un matériau important largement utilisé dans les domaines des semi-conducteurs, industriels et médicaux. En raison de ses excellentes performances et de son coût élevé, il existe encore un grand potentiel de développement dans le futur.
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